IT之家 8 月 4 日消息 据 TCL 华星发布,近日,TCL 华星显示技术创新中心新材料开发团队开发了一种新型的选择性电沉积技术,实现了大于 1000PPI 的全色大面积量子点(QDs)图案化彩膜及高性能 QLED 器件的制备。创新中心联合南科大,北大近日以“Large-AreaPatterning of Full-Color Quantum Dot Arrays Beyond 1000 Pixels Per Inch bySelective Electrophoretic Deposition”为题,在国际著名期刊《自然-通讯》(Nature Communications)在线发表相关研究论文。量子点材料具有尺寸可控、发射波长可调、发射光谱窄、发光效率高等优点,近年来受到了广泛的关注。作为一种半导体功能材料,其在显示器件、照明器件、光伏太阳能电池、光电探测器等领域均具有巨大的应用潜力。据介绍,到目前为止,各种各样
TCL 华星开发全新量子点图案化技术:大于 1000PPI,高性能 QLED 器件
2021-08-04 14:34:56来源: IT之家
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