死磕台积电：三星掌门人李在镕拜访ASML总部，寻求供货更多EUV光刻机

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图片来源@视觉中国文丨牛科技芯片需求的上涨对晶圆代工厂商的作用是显而易见的，特别是对于依赖先进制程的高性能芯片，7nm、5nm等制程的加持不仅让性能有了飞跃的提升，在功耗的控制上也有更多的余地。对于大部分依赖先进制程的芯片公司而言，从晶圆代工厂商中抢订单已经成为了头等大事。当然，对于晶圆厂商来说，决定先进制程量产的光刻机也有着同样的地位。特别是在进入7nm、5nm之后，EUV光刻机的数量将直接决定能否持续取得市场领先地位。作为目前晶圆代工领域的两大龙头，台积电和三星之间围绕光刻机的竞争已经趋于白热化。阿斯麦发布全新EUV光刻机，台积电揽获过半光刻机巨头阿斯麦ASML公司近日公布了旗下EUV路线图上的最新光刻机信号——TWINSCANNXE:3600D的最终规格。根据阿斯麦披露的信息来看，新的NXE-5000EUV光刻机将具备生产3nm甚至更先进制程芯片的能力，具体规格为30mJ/cm2 的曝光速度达到每小