英特尔 High NA EUV 光刻机今年晚些时候投入研发工作，有望在三代节点沿用

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IT之家 4 月 22 日消息，英特尔近日宣布完成世界首台商用 High NA EUV 光刻机的安装。而在上周的一场电话会议上，英特尔院士马克・菲利普斯（Mark Phillips）表示这台耗资约 3.5 亿美元（IT之家备注：当前约 25.38 亿元人民币）的庞然大物年内就将启用。菲利普斯是英特尔代工旗下逻辑技术开发部门的光刻、硬件和解决方案主管。他表示英特尔将于今年晚些时候将 High NA EUV 光刻机投入制程开发工作。英特尔将在 18A 尺度的概念验证节点上对 High NA EUV 和传统 0.33NA EUV 光刻的混合使用进行测试，并在之后的 14A 节点上进入商业化量产阶段。菲利普斯预测 High NA EUV 光刻机至少可在三代的未来节点上沿用，从而将光刻技术的名义尺度突破到 1nm 以下量级。关于未来光刻技术发展，菲利普斯认为将光线波长进一步缩短至 6.7nm 会引入大量新的问题，包括明显更大的光学组件；在