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华为 EUV 光刻新专利公开,解决相干光无法匀光问题

2022-11-19 15:54:17来源: IT之家

IT之家 11 月 19 日消息,在半导体行业,极紫外光刻技术 (Extreme Ultraviolet,EUV) 对于未来光刻技术乃至于先进制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效,我们一直走在制程微缩的道路上,但光刻设备的分辨率决定了 IC 的最小线宽,越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此,光刻机的升级就势必与分辨率水平相关联。光刻机演进过程是随着光源改进和工艺创新而不断发展的。EUV 作为 7nm 及更先进制程芯片的基础,采用了更加成熟化的极紫外光源,同时还采用了立体化的全数控光刻技术,这让光刻工艺走上了一个新的高度,于是光刻行业进入了以 EUV 光刻机为主的极紫外光时代。随着先进制程的进一步推进,全球半导体制造龙头台积电、三星、英特尔纷纷扩大 EUV 光刻机资本开支,积极扩充 7nm 以下先进产能。与此同时,各大芯片设计公司,例如大家熟知的高通、英伟达、博通、联发科、AMD、苹果、海思等,都

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