国产 EDA 新突破，东方晶源推出计算光刻云方案

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IT之家 7 月 16 日消息，据东方晶源发布，近日，东方晶源微电子科技（北京）有限公司（以下简称“东方晶源”）发布首款基于云端的 EDA 计算光刻平台 ——AeroHPO 全流程协同优化系统，成为国产 EDA 和一体化良率解决方案“云”部署商。该系统沿用东方晶源自主研发、全球率先工程应用的“全芯片反向光刻掩模优化（ILT）”技术，同时依托于公有云平台，可为客户提供 28nm 及以下技术节点的制程建模、基于 ILT 的掩模优化、设计规则与掩模规则检查（DRC / MRC）、光源掩模联合优化（IRO）、严格物理光刻仿真、DPT 版图拆分及光刻性能检查（LRC）等全产品线功能与服务。AeroHPO 是东方晶源现有基于私有计算集群的计算光刻解决方案的补充，该系统在易获得性和灵活的收费方式等方面具有显著优势，可为高校和科研院所等提供便捷的 EDA 和计算光刻教学与科研平台，同时也为中小型芯片设计与制造企业提供更为经济和灵活的解决方案。东