三星与 ASML 达成协议：采购下一代 High-NA EUV 光刻机，单价近 26 亿元

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IT之家 6 月 30 日消息，据 BusinessKorea 报道，三星电子副董事长李在镕于 6 月中旬结束了对欧洲的商务访问，此行他与 ASML 公司就引进该荷兰半导体设备制造商的下一代极紫外（EUV）光刻设备进行了会谈。报道称，李在镕于 6 月 14 日（当地时间）在荷兰 ASML 总部会见了 ASML 首席执行官 Peter Wennink 和首席技术官 Martin van den Brink，并就引进今年生产的 EUV 光刻设备和计划于明年推出的高数值孔径（High-NA）EUV 光刻设备达成了协议。High-NA EUV 是下一代光刻设备，与现有的 EUV 光刻设备相比，可以雕刻出更精细的电路，其被认为是一个改变游戏规则的设备，将决定 3 纳米以下代工市场技术竞赛的赢家。IT之家了解到，High-NA EUV 光刻设备的单价估计为 5000 亿韩元（约 25.85 亿元人民币），是现有 EUV 光刻设备的两倍。今年