45nm 以上节点关键工艺，应用材料收购芬兰 ALD 技术先驱 Picosun

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晶圆制造设备巨头应用材料收购了芬兰原子层沉积（ALD）技术的先驱 Picosun，后者研发的 ALD 技术被用于从逻辑和存储器到 LED、微机械 MEMS 器件和电源芯片的芯片制造。该公司至今已融资 1740 万美元，但未披露与应用材料的交易额。据 eeNews 报道，ALD 已成为逻辑器件制造中的关键工艺技术。自在 45nm 的商业制造中首次使用以来，对 ALD 的依赖已经拓展到今天的 10nm 节点甚至更远。22nm 节点通常有 10+ ALD 步骤，而 10nm 节点大约有 70 个 ALD 步骤，被用于 high-K 介质，如 HfOx 和 AlOx，栅极金属层，如 TiN 和 TaN，蚀刻停止层，衬垫和间隔层，如 SiOx 和 SiNx。Picosun 预计将成为应用材料 ICAPS（物联网、通信、汽车、电源和传感器）集团的一部分，该集团提供材料工程系统。Picosun 还拥有强大的研发能力、优秀的团队，并与全球领先的