进入先进制程产线！国产半导体设备拓荆科技上市，中芯国际为其最大客户

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芯东西 4 月 20 日报道，刚刚，薄膜沉积设备供应商拓荆科技登陆科创板，发行价 71.88 元 / 股。拓荆科技开盘价为 95.01 元 / 股。开盘后，拓荆科技股价最高涨至 104 元 / 股，涨幅达 44%，之后有所回落。截至芯东西成文，拓荆科技报 97 元 / 股，涨幅 35%，总市值 122 亿元。薄膜沉积是芯片制造的核心工艺环节，晶圆厂通过这种技术制造芯片衬底上的微米或纳米级薄膜材料层。薄膜沉积设备和光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造的三大主设备。目前这一市场基本被应用材料、泛林半导体、东京电子等国际龙头占据，是国产半导体的“卡脖子”环节。拓荆科技主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个系列，已广泛应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程产线，并已展开 10nm 及以下制程产品的验证测试。▲ 拓荆科技产品（来源：拓荆科技官网）拓荆科技是国产薄