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先进FinFET工艺的多项流片巩固了世芯电子的业界领先地位

2022-04-14 11:49:00来源: 美通社

上海2022年4月14日 /美通社/ -- 世芯电子完整体现了其在先进FinFET(先进鳍式场效电晶体)的技术组合并且成功完成在台积电7/6/5纳米的流片。除了先进FinFET的技术组合,世芯的ASIC整体设计解决方案更是涵盖了全方位一流的IP种类和先进封装技术。世芯在7/6/5纳米的ASIC设计上能特别专注于具有数十亿逻辑门数的超大规模/尺寸IC设计。这些先进的IC主要用于人工智能、高性能计算、网络及存储应用等领域。 拥有一套经过自身验证的芯片设计流程和法则,是世芯成功的关键。它不仅能优化功耗、性能和面积的设计,同时还能符合客户严格的流片计划要求。世芯完整的7/6/5纳米设计能力包括大规模芯片设计里必要的分区和签核、测试设计流程,以及一套涵盖了全面系统协同设计签核的中介层/基板设计的完整2.5D封装设计流程。 世芯的创新封装服务也涵盖信号/电源仿真及热仿真(SI/PI),能提供即插即用的流片后解决方案,以减少基板层和由此产