IT之家 1 月 28 日消息,据京东方宣布,已在氧化物半导体显示技术领域取得重要突破,攻克了铜(Cu)易扩散、易氧化和易钻刻等业界难题,在业内率先实现铜互连堆叠结构的量产,及高刷新率、高分辨率、低功耗氧化物显示技术集成,打破了国外垄断,在行业内持续推出低功耗、超窄边、500Hz + 电竞显示屏、超大尺寸 8K Oxide 120Hz、可变频刷新率显示等一系列高端技术和产品。同时在高迁移率 30+cm2/Vs 氧化物技术研发方面也有很大突破,为后续高端产品的性能提升奠定了技术基础。▲ 京东方 13.3 英寸氧化物 Full In Cell UHD 超窄边框显示屏氧化物半导体显示技术具备迁移率高、关态电流低、制程工艺简单、可大尺寸化等优点,能够满足未来产品高品质提升和降低能耗的双重需求。然而,在氧化物技术产业化应用上,传统的氧化物薄膜微结构在偏压应力、光照、大电流下器件性能衰减等不稳定性问题,以及铜工
京东方氧化物半导体显示重要突破!展示 27 英寸 FHD 500Hz + 显示屏
2022-01-28 22:46:12来源: IT之家
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