美光解散上海 DRAM 设计团队，业内人士称可能是为防止技术外泄

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集微网消息，1 月 25 日，业内有消息指出，美光科技正在解散 150 人左右规模的上海研发中心，并挑选了 40 多位核心研发人员提供技术移民美国的资格。针对上述消息，集微网在向多位美光前员工与在职员工求证后获悉，美光此次并非解散整个上海研发中心，而是仅仅解散了 DRAM 设计部门，该部门总人数超过 100 人。除了该团队，美光上海研发中心还包括销售、测试等多个部门。另外，美光目前在西安的工厂也不会发生其他异动，该厂主要开展集成电路装配与测试以及 DRAM 模块制造。美光员工告诉集微网，上海的 DRAM 设计团队的解散将于今年内完成，公司提供技术移民美国资格的消息属实，部分核心员工将可以携带家属一同移民至美国，目前仍无法确定有多少员工会选择移民。据一位前美光员工透露，美光的 DRAM 设计团队此前有一大波人员流失至国内的本土 IC 设计公司和存储大厂。某半导体行业高管评论称，美光解散 DRAM 设计团队很有可能是出于防止技术外泄