大改命名规则，英特尔制程工艺官方解析：半导体的埃米时代

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IT之家 7 月 27 日消息 今日，英特尔公布了其有史以来最详细的制程技术路线图之一，展示了从现在到 2025 年乃至未来，驱动新产品开发的技术。目前，英特尔官方公布资料介绍了实现此路线图技术的关键细节，并解释了新的节点命名方法背后的依据。以下是英特尔制程技术路线图、实现每个节点的技术以及新节点命名的详细信息：Intel 7（此前称之为 10 纳米 Enhanced SuperFin）通过 FinFET 晶体管优化，每瓦性能比英特尔 10 纳米 SuperFin 提升约 10% - 15%，优化方面包括更高应变性能、更低电阻的材料、新型高密度蚀刻技术、流线型结构，以及更高的金属堆栈实现布线优化。Intel 7 将在这些产品中亮相：于 2021 年推出的面向客户端的 Alder Lake，以及预计将于 2022 年第一季度投产的面向数据中心的 Sapphire Rapids。Intel 4（此前称之为 Intel 7 纳米）与