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国产光刻机背后的希望

2020-12-27 11:19:24来源: IT之家

国产光刻机的研发进程,似乎越发 “扑朔迷离”。今年六月份有消息传出,国产光刻机龙头上海微电子将在一年内交付用于 28nm 制程生产的 193nm ArF 光刻机。另外,据方正证券今年发布的相关研报,国家 02 专项光刻机项目二期曾设定,拟于 2020 年 12 月验收由上海微电子设计集成的 193nm ArF 浸没式 DUV 光刻机。这一技术突破无疑极具重要意义。要知道,此前上海微电子能量产的最先进光刻机,已被卡在 90nm 制程上四年之久。但是,现在时间迈进 12 月中旬,我们却并未看到有关这台光刻机的确凿消息。这一背景下,中国的 IC 前道用先进光刻机研发之路,究竟走得怎么样了?那台传言中的 ArF 光刻机背后,又有哪些玩家的身影?芯东西挖掘国产 193nm ArF 浸没式 DUV 光刻机背后的研发故事,发现除了国产光刻机龙头上海微电子,其他 5 家 “低调”的企业亦承担了重要角色。今年以来,中美贸易摩擦加剧、全球范围内疫情

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